高真空PEVCD制备系统
[ 基础信息 ]
生产国家 : 中国
制造厂商 : 沈阳奇汇
购置日期 : 2013-01-01
规格型号 : QHV-P400D
[ 分类信息 ]
设备类型 :
设备编号 : 1300889S
[ 联系信息 ]
联系人 : 周海青
存放地址 : 量子楼216
联系电话 : 13054194197
联系邮箱 : yangyi@hunnu.edu.cn
[ 附加信息 ]
主要附件及配置 :
PECVD沉积室，真空室内尺寸Ф400×350的圆柱体，真空专用不锈钢壳体，水冷壁结构。外表面喷砂处理，内表面抛光。各种刀口法兰接口布局合理，与真空泵组及真空测控系统、样品加热系统及测量控制、进气口，观察窗等连接匹配。
主要功能及特色 :
主要制备材料:非晶硅、多晶硅薄膜及相应的N型/P型掺杂薄膜, 淀积不均匀性：≤±5％。
主要规格及技术指标 :
PECVD可沉积100×100mm衬底一片，基片加热温度室温～500℃，靶面到衬底距离20～70MM连续可调。最高真空优于9*10-6pa、恢复真空6.6×10-4Pa。
